GSL-1100X-SPC-16C濺射蒸鍍膜儀配備了熱蒸發(fā)附件，具有濺射和蒸發(fā)兩種功能。不但可以用等離子濺射的方式鍍金屬膜，也可以用蒸發(fā)的方式得到碳或其他金屬單質(zhì)的薄膜。本機能夠滿(mǎn)足掃描電子顯微鏡樣品的制備和非導體材料實(shí)驗電極的制作，也可以用于材料研究中各種新材料性能的實(shí)驗。

OTF-1200X-RTP-II近距離蒸發(fā)鍍膜（CSS）爐是一款快速蒸發(fā)管式爐，專(zhuān)門(mén)用于PVD或CSS法制作薄膜；其爐管外徑為11″，爐管內載樣盤(pán)可放置3″ 的圓形或2″×2″的方形基片；加熱元件為兩組紅外燈管，分別安裝在腔體頂端和底部，升溫速率高達20℃/s ；溫控系統采用PID30段程序化控制，控溫精度為±1℃，并且儀器面板上帶有RS485接口，若儀表內配有控溫軟件，就可將升溫程序和曲線(xiàn)導出。

GSL-1800X-ZF2蒸發(fā)鍍膜儀主要應用于大專(zhuān)院校、科研機構、企業(yè)實(shí)驗室及微小產(chǎn)品進(jìn)行真空鍍膜等真空處理的工藝研究、樣板試制、操作培訓和生產(chǎn)。

GSL-1800X-ZF4蒸發(fā)鍍膜儀是一款高真空的蒸發(fā)鍍膜儀，特別適合蒸鍍對氧較敏感的金屬膜（如Ti、Al 、Au等）和小分子的有機物。本機設有4個(gè)蒸鍍加熱舟，每個(gè)加熱舟都可獨立進(jìn)行蒸鍍，加熱舟上方有一個(gè)可旋轉擋板，當其中一個(gè)加熱舟進(jìn)行蒸鍍時(shí)擋板將其它三個(gè)鎢舟遮住，以防蒸鍍材料之間相互污染。若更改部分配置也可實(shí)現對有機材料的蒸發(fā)鍍膜，可滿(mǎn)足發(fā)光器件及有機太陽(yáng)能電池方面的研究要求，是一款鍍膜效果理想

GSL-1100X-SPC-15E-LD小型蒸鍍儀可對樣品進(jìn)行鍍碳處理，可處理的樣品直徑可達50mm，真空度可達到10-2torr，適合用于實(shí)驗室對小樣品進(jìn)行表面的蒸碳鍍膜使用

GSL-1700X-SPC-2小型程序控溫蒸發(fā)鍍膜儀可設定程序，并精確控制溫度200ºC-1500ºC（或者1200ºC-1700ºC），Z大可蒸鍍直徑2“的薄膜樣品，樣品臺可旋轉，以獲得更均勻的薄膜?？芍苽涓鞣N金屬薄膜和有機物薄膜，廣泛用于電極的制備和有機物發(fā)光LED。