1200℃七溫區獨立控制管式爐OTF-1200X-VII（定制）采用獨立的溫控裝置，可離開(kāi)爐體進(jìn)行溫控操作，通過(guò)調節各個(gè)溫區的溫度，可以在加熱區內形成四段溫度梯度，或形成較長(cháng)的恒溫區域。本機具有控溫精度高，保溫效果好，溫度范圍大，溫度均勻性高，溫區多，可通氣氛抽真空及安全可靠、操作簡(jiǎn)單等特點(diǎn)。

1200℃五溫區獨立控制管式爐OTF-1200X-V（定制）采用獨立的溫控裝置，可離開(kāi)爐體進(jìn)行溫控操作，通過(guò)調節各個(gè)溫區的溫度，可以在加熱區內形成四段溫度梯度，或形成較長(cháng)的恒溫區域。本機具有控溫精度高，保溫效果好，溫度范圍大，溫度均勻性高，溫區多，可通氣氛抽真空及安全可靠、操作簡(jiǎn)單等特點(diǎn)。

1200℃五溫區開(kāi)啟式管式爐OTF-1200X-V每個(gè)溫區分別由獨立的溫控系統控制，通過(guò)調節各個(gè)溫區的溫度，可以在加熱區內形成四段溫度梯度，或形成較長(cháng)的恒溫區域。本機用于高等院校、科研院所、工礦企業(yè)等實(shí)驗或小批量生產(chǎn)，主要針對電子陶瓷的預燒、燒結、鍍膜、高溫熱解低溫沉積（CVD）等工藝。具有控溫精度高，保溫效果好，溫度范圍大，溫度均勻性高，溫區多，可通氣氛抽真空及安全可靠、操作簡(jiǎn)單等特點(diǎn)。

1200℃三溫區開(kāi)啟式管式爐OTF-1200X-Ⅲ-S每個(gè)溫區分別由獨立的溫控系統控制，具有控溫精度高，保溫效果好，溫度范圍大，溫度均勻性高，溫區多等特點(diǎn)。本機可通氣氛抽真空，操作簡(jiǎn)單，安全可靠。

1200℃開(kāi)啟式雙溫區管式爐OTF-1200X-IIZ高溫度可達到1200℃，并可通過(guò)調節兩個(gè)獨立的控溫程序，使爐管內溫度場(chǎng)形成一梯度。本機可用CVD方法來(lái)生長(cháng)納米材料和制作各種薄膜。

1200℃開(kāi)啟式管式爐OTF-1200X-5L是一款單溫區管式爐，爐管直徑Φ 5″，長(cháng)1400mm ，Z高溫度可達到1200℃。本機可在各種氣氛保護下對樣品進(jìn)行熱處理、沉積、燒結，是一款的實(shí)驗設備。