混氣系統2路質(zhì)子GSL-2Z是用于控制一種或兩種的氣體流經(jīng)真空密封的管式爐，這種氣體控制系統安裝在移動(dòng)架內，管式爐可以放在移動(dòng)架上面，氣體控制系統的前面板上有控制并顯示氣體流量的調節閥，可以用于CVD系統及退火爐，用來(lái)研究氣體環(huán)境對材料的影響，在半導體和集成電路工業(yè)、特種材料學(xué)科、化學(xué)工業(yè)、石油工業(yè)、醫藥、環(huán)保和真空等多種領(lǐng)域的科研和生產(chǎn)中有著(zhù)重要的作用，廣泛應用于電子工藝設備，如擴散、氧化、外。

混氣系統3路質(zhì)子GSL-3Z是用于控制一種到三種的氣體流經(jīng)真空密封的管式爐，這種氣體控制系統安裝在移動(dòng)架內，管式爐可以放在移動(dòng)架上面，氣體控制系統的前面板上有控制并顯示氣體流量的調節閥，可以用于CVD系統及退火爐，用來(lái)研究氣體環(huán)境對材料的影響，在半導體和集成電路工業(yè)、特種材料學(xué)科、化學(xué)工業(yè)、石油工業(yè)、醫藥、環(huán)保和真空等多種領(lǐng)域的科研和生產(chǎn)中有著(zhù)重要的作用，廣泛應用于電子工藝設備，如擴散、氧化、外延

混氣系統4路質(zhì)子GSL-4Z是用于控制一種到四種的氣體流經(jīng)真空密封的管式爐，這種氣體控制系統安裝在移動(dòng)架內，管式爐可以放在移動(dòng)架上面，氣體控制系統的前面板上有控制并顯示氣體流量的調節閥，可以用于CVD系統及退火爐，用來(lái)研究氣體環(huán)境對材料的影響，在半導體和集成電路工業(yè)、特種材料學(xué)科、化學(xué)工業(yè)、石油工業(yè)、醫藥、環(huán)保和真空等多種領(lǐng)域的科研和生產(chǎn)中有著(zhù)重要的作用，廣泛應用于電子工藝設備，如擴散、氧化、外延

小型兩通道供氣系統CGM-2F是一種緊湊型雙通道微量氣體混合供氣系統，輸入的兩種不同氣體通過(guò)調節壓力和流量，即可輸出一種較準確的混合性氣體，可用以小型管式爐、手套箱、等離子清洗機、小型PECVD系統。

多路浮子控制供氣系統GSL-3F適用于控制一種到三種氣體的通入，管式爐可以置于其上，可用于CVD系統及退火爐，可用來(lái)研究氣體環(huán)境對材料的影響。

精密氮氣發(fā)生器DFN-500是一種小型高純度氣體發(fā)生器，它產(chǎn)生氣體的速率可達到500ml/min，且氣體純度99.99%，是化學(xué)和材料實(shí)驗室的理想設備。